Système de lithographie pour l'industrie des semi-conducteurs JetStep® G45

Le système JetStep G45 répond aux exigences de l'industrie de l'affichage mobile. Basé sur la technologie stepper établie, le système combine des capacités de performance optimisées avec un coût de propriété supérieur. Aperçu du produit Le système JetStep G45 est doté d'une optique de 200 mm. Des optiques à faible distorsion combinées à des mouvements de précision à grande vitesse permettent au système d'obtenir une superposition de <0,5μm. L'optique de grossissement du système JetStep G45 permet l'utilisation d'un réticule (masque) de 6 pouces, ce qui réduit considérablement le coût de l'outillage par rapport aux technologies concurrentes. En outre, le système présente un faible encombrement, ce qui minimise les coûts d'installation, et ses mouvements sans friction réduisent l'usure, ce qui diminue les coûts de maintenance. Ces économies combinées se traduisent par un processus de fabrication abordable, avec des dépenses d'investissement réduites et un faible coût de possession (COO). Spécifications - Objectif de projection et système d'éclairage haute fidélité pour une résolution de 1,5 µm - Format de réticule standard de 6 pouces pour une fabrication rentable - Contrôle automatisé du grossissement pour augmenter la fenêtre de traitement - Système de gestion des réticules embarqué pour une utilisation maximale - Système de métrologie intégré pour l'étalonnage in situ - Mise au point automatique à la volée sur chaque site d'exposition pour ajuster automatiquement la mise au point en fonction de la topologie du panneau - Diagnostics embarqués qui fournissent un retour d'information sur les performances du système et le dépannage