Système de surveillance de température Process Probe™ 1530/1535

de mesureen temps réel

Système de surveillance in situ de la température des plaquettes de silicium Les plaquettes instrumentées Process Probe™ 1530 et 1535 sont utilisées pour surveiller les températures in situ pour une large gamme de procédés, notamment la paroi froide, le RTP, la pulvérisation cathodique, le CVD, les décapants plasma et les réacteurs épitaxiques. Les sondes Process Probe 1530 et 1535 permettent de mesurer directement et en temps réel la température des plaquettes à chaque étape critique du cycle de traitement. Grâce à ces données complètes sur la température, les ingénieurs de procédé peuvent caractériser et affiner les conditions du procédé, ce qui permet d'améliorer les performances de l'équipement de procédé, la qualité des plaquettes et le rendement. Applications Développement de processus, qualification de processus, qualification d'outils de processus, adaptation d'outils de processus Chambres de traitement de couches minces à paroi froide (1530), Chambres de traitement de couches minces à paroi chaude (1535) | 0-1100°C