Les platines XY-Rotary avec moteurs linéaires et moteurs à couple direct conçus avec un profil bas pour la manipulation de plaquettes et de nombreuses autres applications de positionnement précis automatisé dans les industries de fabrication de semi-conducteurs. L'entraînement par moteur linéaire XY permet un positionnement XY inférieur au micron et la platine rotative à entraînement direct assure des performances inférieures à celles de l'arc
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