Unité de purification d'eau ultrapure de process VANOX® POU-F

industriellecompacte

Aperçu
Un système de filtration Point-of-Use (POU) compact et ultra-propre conçu pour éliminer les particules de l'eau ultrapure (UPW) alimentant les outils critiques de nettoyage et de procédés humides en fabrication de semi‑conducteurs.

Description détaillée
Les exigences de la fabrication de semi‑conducteurs ont dépassé les capacités de la métrologie particulaire et des filtrations finales conventionnelles utilisées dans les systèmes UPW. Les filtres finaux classiques ont des tailles de porosité proches, voire supérieures, aux tailles critiques générant les défauts dits "killer". À mesure que les géométries atteignent 10 nm et moins, il devient essentiel de contrôler les particules au point d'utilisation.

Des éléments tels que les canalisations, vannes et conditions d'exploitation transitoires dans la boucle de distribution UPW peuvent générer ou libérer des particules qui contaminent les outils. Le système VANOX® POU‑F réduit ce risque en appliquant des matériaux validés et une technologie de filtration au point d'utilisation pour minimiser le transfert de particules vers les outils critiques.

S'appuyant sur plus d'une décennie de déploiements Vanox en lithographie par immersion, le POU‑F adapte cette technologie de contrôle des particules à l'ensemble de l'usine. Le système s'intègre à la Microelectronics Technology Suite d'Evoqua pour fournir une surveillance en temps réel et un pilotage basé sur les données.

Caractéristiques clés

• Conforme à Semi C79-0113
• Taux de récupération : 95 %
• Validation de l'élimination des particules : jusqu'au niveau 10 nm
• Pompe non métallique
• Conçu en matériaux ultra‑propres validés
• Pression d'alimentation contrôlée et réglable manuellement pour correspondre à la pression UPW
• Intégration des données en temps réel avec la Microelectronics Technology Suite d'Evoqua

Avantages

• Amélioration de l'élimination des particules à l'entrée des outils critiques
• Réduction des particules impactant le rendement et les performances
• Allongement des intervalles entre maintenances préventives pour les équipements wet/clean
• Conçu et validé pour des environnements de production de semi‑conducteurs ultra‑propres

Caractéristiques / spécifications techniques

• Conformité : Semi C79-0113
• Taux de récupération : 95 %
• Validation d'élimination des particules : jusqu'à 10 nm
• Pompe : construction non métallique
• Matériaux : matériaux ultra‑propres validés
• Pression d'alimentation : contrôlée et réglable manuellement pour correspondre à la pression UPW
• Intégration de données : compatible avec Evoqua Microelectronics Technology Suite pour données en temps réel