Système de photolithographie UV-NIL UV/EVG®770

L'EVG770 est une plate-forme polyvalente pour la lithographie par nanoimpression pas à pas et répétée pour la fabrication efficace de masters ou de motifs directs de structures complexes sur substrats. Cette approche permet une réplication uniforme des gabarits de petites matrices jusqu'à 50 mm x 50 mm sur de grandes surfaces jusqu'à des substrats de 300 mm de diamètre. En combinaison avec des méthodes de tournage au diamant ou d'écriture directe, l'impression pas à pas est fréquemment utilisée pour fabriquer efficacement les masters nécessaires à la fabrication de wafers ou au procédé SmartNIL d'EVG. Les principales caractéristiques de l'EVG770 incluent des capacités d'alignement précises, un contrôle complet du processus et la flexibilité nécessaire pour répondre aux besoins d'une grande variété de dispositifs et d'applications. Caractéristiques Fabrication efficace de microlentilles pour l'optique au niveau de la plaquette jusqu'aux nanostructures pour SmartNIL® Implémentation simple de différents types de maîtres Modes de distribution à réserve variable Image en direct pendant la distribution, l'impression et le démoulage Contrôle de force in-situ pour l'impression et le démoulage Compensation optique optionnelle de l'erreur du coin optique Manipulation automatisée cassette à cassette en option