Système de photolithographie UV-NIL IQ Aligner®

Le système IQ Aligner UV-NIL permet le micromoulage et la nano-impression avec des tampons et des plaquettes de 150 mm à 300 mm de diamètre et convient parfaitement à la fabrication hautement parallèle de microlentilles polymères. A partir de tampons de travail souples répliqués à partir de tampons maîtres de la taille d'une plaquette, le système offre des procédés de moulage de microlentilles hybrides et monolithiques qui peuvent être facilement adaptés à différentes combinaisons de matériaux pour le travail des tampons et des matériaux de microlentilles. De plus, EV Group offre un procédé de moulage de microlentilles qualifié, incluant tout le savoir-faire pertinent en matière de matériaux. La force de contact uniforme pour l'impression de grandes surfaces à haut rendement est assurée par la conception de mandrin brevetée d'EV Group. Les configurations incluent des mécanismes de libération pour les tampons à partir de substrats imprimés. Caractéristiques Pour les applications de micromoulage d'éléments optiques Pour les applications de nanoimpression plein champ Trois broches en Z à commande indépendante pour une meilleure compensation du coin entre le tampon et le substrat Trois broches en Z à commande indépendante pour le contrôle de la variation de l'épaisseur totale (TTV) de la réserve d'impression Procédés UV-NIL doux utilisant des tampons de travail doux La fonction exclusive de désembossage entièrement automatisée d'EVG Intégration d'une station d'application de résine photosensible Alignement de l'encollage et capacités de collage UV Caractéristiques techniques Diamètre de la plaquette (taille du substrat) 150 jusqu'à 300 mm Résolution ≤ 50 nm (résolution en fonction du modèle et du processus) Processus pris en charge Soft UV-NIL, moulage de lentilles