Le FemtoLux 3 est un laser à fibre femtoseconde moderne conçu pour la recherche et le développement ainsi que pour l'intégration industrielle. Il délivre une puissance de sortie de 3 W et permet l'optimisation des paramètres laser pour des applications telles que le marquage et la structuration volumique de matériaux transparents, la photopolymérisation, l'imagerie biologique, la microscopie non linéaire, et plus encore.
Caractéristiques- À 1030 nm : puissance de sortie typique de 3 W, jusqu'à 3 μJ/impulsion et 10 μJ/rafale
- À 515 nm : puissance de sortie typique de 1,2 W, jusqu'à 1,2 μJ/impulsion et 5 μJ/rafale
- < 300 fs … 5 ps durée d'impulsion réglable
- M² < 1,2
- Capacités de contrôle et de synchronisation laser polyvalentes
- Jusqu'à 10 MHz de fréquence de répétition d'impulsion
- Déclenchement intelligent pour un fonctionnement synchrone avec scanner polygonal et PSO
- Contrôle instantané de l'amplitude
- Refroidissement par air passif de la tête laser
- Fonctionnement 24/7
Applications- Marquage de volume interne de matériaux transparents
- Marquage et structuration
- Micromachinage de matériaux fragiles
- Photopolymérisation
- Chirurgie ophtalmologique
- Imagerie biologique
- Pompage d'OPO/OPA femtoseconde
- Microscopie
Le FemtoLux 3 offre une durée d'impulsion réglable de 300 fs à 5 ps, une fréquence de répétition d'impulsion réglable jusqu'à 10 MHz, et une énergie d'impulsion réglable jusqu'à 3 μJ, permettant une optimisation pour une large gamme d'applications. Le laser peut être équipé d'un module de seconde harmonique pour étendre encore son champ d'application. Avec le mode rafale activé, il peut générer des rafales d'impulsions avec une énergie supérieure à 10 μJ, améliorant considérablement l'efficacité du processus. Sa tête laser rigide, compacte et refroidie par air passif permet une intégration avec divers équipements pour le micro-traitement de matériaux, la microscopie ou d'autres fins de recherche.
Spécifications- Longueur d'onde centrale : 1030 nm (fondamentale), 515 nm (avec option seconde harmonique)
- Durée d'impulsion minimale (FWHM) à 1030 nm : < 300 fs (typique ~230 fs)
- Plage de réglage de la durée d'impulsion : 300 fs – 5 ps
- Puissance de sortie moyenne maximale : > 3 W à 1030 nm, > 1,2 W à 515 nm
- Stabilité à long terme de la puissance (Écart type) : ≤ 0,5 %
- Énergie d'impulsion maximale : > 3 µJ à 1030 nm, > 1,2 µJ à 515 nm
- Stabilité de l'énergie d'impulsion (Écart type) : < 2 %
- Fréquence de répétition d'impulsion (PRR) : 1 – 10 MHz
- Fréquence de répétition d'impulsion (PRF) après diviseur de fréquence : PRF = PRR / N, N=1, 2, 3, … , 65000; tir unique
- Portillon d'impulsion externe : via entrée TTL
- Mode rafale : 1 – 10 impulsions
- Énergie maximale de rafale : > 10 µJ à 1030 nm, > 5 µJ à 515 nm
- Contrôle de la forme de rafale : via entrée analogique
- Atténuation de la puissance : 0 – 100 % depuis l'application de contrôle à distance ou via entrée analogique
- Orientation de la polarisation : linéaire, verticale
- Rapport d'extinction de polarisation : > 1000:1
- M² : < 1,2
- Divergence du faisceau (angle total) : < 1,0 mrad
- Ellipticité du faisceau (champ lointain) : > 0,85
- Stabilité de pointage du faisceau (pk-to-pk) : < 30 µrad
- Diamètre du faisceau (1/e²) à 20 cm de l'ouverture laser : 2,0 ± 0,3 mm à 1030 nm, 1,0 ± 0,2 mm à 515 nm
- Refroidissement de la tête laser : air, passif
- Taille de la tête laser (L×W×H) : 459,5 × 362 × 111 mm à 1030 nm, 615,3 × 362 × 139 mm à 515 nm
- Taille de l'unité d'alimentation (L×W×H) : 496 × 483 × 184 mm (autonome), 548 × 483 × 184 mm (montable en rack 19″)
- Longueur de l'ombilical : 5 m
- Exigences d'alimentation : 100 – 240 V AC, monophasé 47 – 63 Hz
- Consommation électrique maximale : < 500 W
- Température ambiante de fonctionnement : 15 – 30 °C
- Humidité relative : 10 – 80 % (sans condensation)
- Niveau de contamination de l'air : ISO 9 (air ambiant) ou mieux
- Classification selon EN60825-1 : produit laser de CLASSE 4