Machine de dépôt CVD C50S
de couches mincesde parylène

machine de dépôt CVD
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Caractéristiques

Méthode
CVD
Type de dépôt
de couches minces, de parylène

Description

Idéal pour la production industrielle à grande échelle Outil puissant avec un temps de traitement optimisé Parfaitement adapté pour : La production en grand volume de tous les composants de petite et moyenne taille Grands PCB, cartes électroniques (par exemple dans l'application aéronautique) Dimensions globales (L x l x H) - 2600 x 700 x 2000mm Poids - 400kg Taille de la chambre - ∅ 450 x 660 mm Taille de l'outillage - ∅ 340 x 610 mm Charge maximale de l'outillage - 100kg Capacité de charge du dimer - 500g Capacité de pompage - 80 m3/h Alimentation électrique requise - 3 x 400V + N + PE - 50 Hz 3 x 25A - 15kW Parylène transformable - Type : C, D, N, F-VT4, F-AF4 Chambre thermalisée - plage de température - 20 - 30°C Options - Compatible avec toutes les options / Palan inclus

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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.