Pompe à vide à vis COBRA DS 0160 G
sècheplasmacompacte

pompe à vide à vis
pompe à vide à vis
Ajouter à mes favoris
Ajouter au comparateur
 

Caractéristiques

Technologie
à vis
Lubrification
sèche
Application
plasma
Autres caractéristiques
compacte, anticorrosion
Vide limite

0,03 mbar
(0 psi)

Débit

160 m³/h
(5 650,35 ft³/h)

Description

COBRA DS 0080 / 0160 G Conception de vis avancée Efficace : rentable, maintenance minimale, temps de fonctionnement élevé Flexible : orienté application Temps de traitement courts : en raison des vitesses de pompage élevées Robuste : revêtement anticorrosion sur les composants internes Design compact Les COBRA DS 0080/0160 G sont des pompes à vide à vis sans fin de la série éprouvée COBRA DS. Leurs vitesses de pompage élevées, même dans des conditions où un débit d'hydrogène élevé est requis, font des pompes à vide à vis COBRA DS des pompes idéales pour tous les processus exigeants de la production de cellules photovoltaïques, d'écrans plats et de semi-conducteurs. La technologie de pointe de la pompe à vide à vis COBRA DS permet d'évacuer les fluides chargés de poudre et de particules. Les pompes à vide à vis sans fin COBRA DS se caractérisent par une compression à sec, un profil de vis spécialement développé et une décharge gazeuse sans entrave. Il en résulte un degré élevé de tolérance à la vapeur et aux particules. Les vis sont fabriquées à partir d'une pièce coulée d'un seul tenant, ce qui évite les interstices et rend impossible la pénétration de fluides ou de particules de processus et empêche ainsi la corrosion. Equipées de moteurs à haut rendement, les COBRA DS 0080/0160 G offrent une excellente efficacité énergétique. Avec de faibles besoins en maintenance, des coûts d'exploitation réduits, un temps de disponibilité très élevé et une longue durée de vie, le coût total de possession est très faible, ce qui constitue la norme dans cette classe de performance. L'équipement ultérieur de ces pompes à vide à vis sur des systèmes existants peut être effectué rapidement et facilement grâce à une conception " fit-in-place ". Applications CVD au plasma haute densité (HDP-CVD) Traitement thermique rapide (RTP) CVD sous-atmosphérique (SACVD) CVD métal-organique (MOCVD) CVD assistée par plasma (PECVD) CVD basse pression (LPCVD) Dépôt de couche atomique (ALD)

---

Catalogues

Aucun catalogue n’est disponible pour ce produit.

Voir tous les catalogues de Busch Vacuum Solutions

Salons

Rencontrez ce fournisseur au(x) salon(s) suivant(s)

Hannover Messe 2024
Hannover Messe 2024

22-26 avr. 2024 Hannover (Allemagne) Hall 13 - Stand E12

  • Plus d'informations
    IFAT 2024
    IFAT 2024

    13-17 mai 2024 München (Allemagne) Hall Vide - Stand B2.127/226

  • Plus d'informations
    * Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.