Pompe à vide à vis COBRA DS 0600 E
sècheplasmacompacte

pompe à vide à vis
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Caractéristiques

Technologie
à vis
Lubrification
sèche
Application
plasma
Autres caractéristiques
compacte
Vide limite

0,01 mbar
(0 psi)

Débit

600 m³/h
(21 188,8 ft³/h)

Description

COBRA DS 0600 E Conception avancée des vis Efficace : faibles coûts d'exploitation, maintenance minimale, temps de fonctionnement élevé Flexible : orienté vers les applications Des délais de traitement courts : en raison des vitesses de pompage élevées Conception compacte La COBRA DS 0600 E est une pompe à vide à vis sans fin de la série COBRA DS, qui a fait ses preuves. Leurs vitesses de pompage élevées, même dans des conditions où un débit d'hydrogène élevé est nécessaire, font des pompes à vide à vis COBRA DS des pompes idéales pour tous les processus exigeants de la production de cellules photovoltaïques, d'écrans plats et de semi-conducteurs. La technologie de pointe des pompes à vide à vis COBRA DS permet d'évacuer les fluides chargés de poudre et de particules. Les pompes à vide à vis sans fin COBRA DS se caractérisent par une compression sèche, un profil de vis spécialement développé et une décharge de gaz sans entrave. Il en résulte un degré élevé de tolérance à la vapeur et aux particules. Les vis sont fabriquées à partir d'une seule pièce de fonte, ce qui permet d'éviter les interstices, rendant ainsi impossible l'entrée de fluides ou de particules dans le processus et empêchant la corrosion. Équipé d'un moteur à haut rendement, le COBRA DS 0600 E offre une excellente efficacité énergétique. Avec de faibles besoins en maintenance, des coûts d'exploitation réduits, un temps de fonctionnement très élevé et un long cycle de vie, le coût total de possession est très faible, établissant ainsi la norme dans cette classe de performance. L'adaptation de cette pompe à vide à vis aux systèmes existants peut être réalisée rapidement et facilement grâce à une conception "fit-in-place". Demandes CVD au plasma haute densité (HDP-CVD) Traitement thermique rapide (RTP) CVD sous-atmosphérique (SACVD) CVD métallo-organique (MOCVD) MCV renforcée par le plasma (PECVD) CVD à basse pression (LPCVD) Dépôt de la couche atomique (ALD) Sas de charge de grande capacité

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