L'aimant permanent hexapolaire pour source d'ions ECR est un assemblage de six pôles à structure Halbach conçu pour générer un champ magnétique radial fort et uniforme à la paroi interne de la cavité plasma, répondant aux exigences de champ pour la production stable de faisceaux d'ions multi-état de charge.
Principe de conception- Configuration Halbach à six pôles pour produire un champ radial concentré et uniforme dans l'ouverture de travail.
- Sélection d'aimants permanents NdFeB performants (exemples : N45, N50M) offrant une rémanence et une coercivité élevées pour la stabilité magnétique.
- Optimisation dimensionnelle (diamètres intérieur/extérieur, épaisseur, répartition des secteurs) visant l'uniformité du champ au rayon de référence R = 50 mm et la réduction des composantes d'ordre supérieur.
Caractéristiques produit- Performance magnétique stable grâce à l'optimisation des matériaux et de la géométrie.
- Intensité du champ adaptée aux exigences des sources d'ions ECR à la paroi interne de la cavité plasma.
- Options de personnalisation : géométrie, qualité d'aimant et aspects thermiques selon les spécifications client.
- Convient aux plateformes expérimentales petites et moyennes pour faisceaux d'ions multi-état et aux systèmes d'implantation ionique.
Simulation du champ magnétique et installation- Simulation magnétique réalisée avec des outils avancés (exemples : POISSON, PERMAG, TOSCA) pour calculer la distribution du champ et étayer les choix de conception.
- Procédures professionnelles d'assemblage, d'installation et de mise en service pour garantir un alignement précis et une stabilité à long terme ; consignes d'utilisation et de maintenance fournies.
Caractéristiques / spécifications techniques- Type de magnét: assemblage de permanent hexapolaire à structure Halbach.
- Matériaux magnétiques : NdFeB (par ex. N45, N50M).
- Point d'évaluation de conception : référence radiale R = 50 mm (uniformité et intensité du champ optimisées à ce rayon).
- Outils de simulation : POISSON, PERMAG, TOSCA.
- Applications typiques : sources d'ions ECR pour génération de faisceaux multi-état de charge, machines d'implantation ionique et plateformes expérimentales petites/moyennes.
- Personnalisation : géométrie, grade de matériau et aspects thermiques/temperature disponibles sur demande.