Four d'épitaxie en phase liquide ESY–10 TTT

tubulaireverticalen graphite

Equipement LPE pour une utilisation flexible Les caractéristiques clés du concept ESY-10 de SOF Optoelectronics sont une grande capacité combinée à une grande flexibilité pour différents types de technologies de production LPE. Une capacité de 50 wafers pour un processus à cinq fusions et de 200 wafers pour un processus à une fusion démontre le potentiel élevé de ce type d'équipement. En plus de l'équipement ESY-10 standard pour une utilisation industrielle, des solutions conçues par le client avec de nombreuses options peuvent être réalisées. L'ESY-10 peut notamment être adapté aux besoins des instituts de recherche et des universités. L'ESY-10 peut être conçu comme un système simple ou double (jumeau) pour réduire la taille de l'empreinte dans la salle blanche. Technologies de production disponibles Infrarouge standard Infrarouge puissant Infrarouge puissant (faible UF) Infrarouge puissant à fenêtre Infrarouge puissant pour IrDA 870 nm Infrarouge de puissance pour IrDA 850 nm GaAs faiblement dopé Points forts techniques Système simple ou double Tube de quartz LPE vertical 3 zones de chauffage Zone plate à température constante : 250 mm Températures jusqu'à 1 050 °C Précision de la régulation de la température : ± 0,5 °C Min. Besoin d'espace : 1.2 x 1.2 m² Grande homogénéité de l'épaisseur des couches par croissance horizontale des couches Traitement entièrement automatique contrôlé par ordinateur Traitement entièrement automatique contrôlé par ordinateur Enregistrement des données de tous les paramètres du processus Convient aux procédés épitaxiaux multicouches Adapté pour un diamètre de wafer jusqu'à 4″ Adaptation flexible de la capacité des plaquettes Minimum de 3 plaquettes pour le développement Maximum de 200 plaques pour la production En principe, le système de graphite ESY-10 consiste en une alternance de plaques de graphite fixes et mobiles avec des creux retenant les substrats. La capacité du système est déterminée par la hauteur de l'empilement des plaques de graphite.