Spectromètre d'émission optique ICP-3000

ICP-OESpour l'analyse de métauxautomatique

- Plus de 70 éléments peuvent être mesurés - Système optique Echelle stabilisé - Excellentes limites de détection, au niveau du ppb pour la plupart des éléments - Large gamme dynamique linéaire, de ppb à pourcentage - Contrôle de fonctionnement en temps réel par logiciel avec programme de protection logique intégré Application - Métaux de terres rares - Matériaux en silicium, industrie de traitement des matériaux magnétiques - Industrie métallurgique : analyse des éléments d'impureté influençant la qualité des matériaux métalliques. Contrôle de la qualité de l'eau - Pétrochimie : mesures de plus de 30 éléments dans le pétrole brut - Pharmacie, hygiène, agriculture, protection de l'environnement, produits de base et industrie alimentaire Caractéristiques de performance - Conception optique avancée avec un réseau holographique entièrement éclairé, avec correction des interférences spectrales et débit de lumière élevé pour des limites de détection améliorées - Large gamme de longueurs d'onde - La plate-forme plasma contrôlée par ordinateur optimise la position d'observation afin de réduire les interférences, d'améliorer le rapport signal sur bruit et de minimiser les émissions de fond - Le flux de gaz porteur, de gaz plasmatique et de gaz auxiliaire contrôlé par logiciel permet un contrôle en temps réel ainsi qu'une grande stabilité du flux - La position de la torche peut être réglée électriquement et le logiciel dispose d'une fonction d'optimisation automatique de la position de la torche - L'évacuation des déchets de l'échantillon par une pompe péristaltique assure un débit stable de l'échantillon ; le mode de pompage rapide améliore la productivité - Le système de couplage automatique rapide et précis garantit l'efficacité et la stabilité du transfert de puissance