·Système RTR à immersion totale en forme de « U » vertical, sans effet de bassin.
·Système de contrôle à faible tension, réduisant la déformation par étirement du film, tension nulle dans la section du bain de galvanoplastie.
·Le caisson de pulvérisation d’anodes breveté, associé à des anodes segmentées inertes DSA insolubles, permet un remplacement rapide des produits chimiques.
·Réduction de la consommation de produits chimiques de bain et des eaux usées.
·Densité de courant élevée de 0,5 à 4 ASD, raccourcissant le temps de galvanoplastie.
·Le cycle de vie des électrolytes est plus long.
·L’anode a une durée de vie plus longue.
·Réglage automatique des paramètres de galvanoplastie, de la courbe graphique et du redresseur pour obtenir une densité de courant constante. Fonctionnement simultané des types « petits lots » et « lots multiples ».
·La cavité scellée de la chambre de galvanoplastie réduit l’efficacité de la ventilation jusqu’à 90 % et minimise les pertes thermiques. Cela a considérablement réduit le coût de l’électricité.
·La résistance extrêmement faible du matériau à l’entrée et à la sortie de la cuve d’immersion assure l’étanchéité des passages d’eau, ce qui réduit les pertes par entraînement, le traitement des déchets, la consommation d’eau et l’utilisation de produits chimiques. Grâce à cette conception, le risque de laisser des marques ou d’endommager le matériau est éliminé.
·La galvanoplastie en « U » horizontale et verticale réduit le risque d’adhérence de particules de cuivre à la surface et augmente le rendement.
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