Machine de polissage chimique SC-LSP4500

machine de polissage chimique
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Caractéristiques

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chimique

Description

Équipement de polissage acide en ligne Gravure/polissage, nettoyage et séchage de cellules solaires mono/multi cristallines. Protection de la couche d'eau→Gravure/polissage→Nettoyage alcalin→Nettoyage acide→Séchage. - Débit élevé : 5 voies 4500pcs/h ; 10 voies 8000pcs/h. - Excellente uniformité, longue durée de vie du bain. - Technologie d'additifs variés ou d'additifs mélangés. - Capacité de traitement de l'épaisseur des plaquettes jusqu'à 120μm - Changement rapide de bain en ligne. - Convient pour le polissage de la face arrière et avec une faible consommation de produits chimiques - Compatible avec MES ; le test de poids en ligne est optionnel. - Compatible avec la fonction de polissage à l'acide.

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18-21 juin 2024 Munich (Allemagne) Hall Vide - Stand A2.137

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