Outil de chanfreinage

Présentation du produit
Meules diamantées conçues pour le meulage, le polissage et l'ébavurage de barreaux de silicium monocristallin. Par rapport aux outils conventionnels, ces meules offrent une dureté abrasive supérieure et des grains plus tranchants, entraînant un taux d'enlèvement de matière accru, une meilleure efficacité d'usinage, des intervalles de rectification plus longs et une précision dimensionnelle stable.

Paramètres du produit
Catégorie — Spécifications/mm (diamètre φ × épaisseur T × alésage H) — Principales caractéristiques
Meules pour lingots de silicium monocristallin (Rough) — φ250×T60/62×H38.1; φ300×T60/62×H52 — Meulage haute vitesse et haute efficacité ; sans rectification ; fort taux d'enlèvement de matière ; longue durée de vie.
Meules pour lingots de silicium monocristallin (Finish) — φ250×T60/62×H38.1; φ300×T60/62×H52 — Meulage haute vitesse et haute efficacité ; précision de surface élevée ; longue durée de vie.
Meules pour faces d'extrémité de silicium monocristallin (End face) — φ250×T60×H80 — Meulage haute vitesse et haute efficacité ; sans rectification ; fort taux d'enlèvement de matière.

Produits associés (exemples)
GC-MJ908R Monocrystal Cropper; GC-KM202 Monocrystal Squaring & Grinding Machine; GC-GP950L Monocrystal Grinder; GC-800XC Diamond Wire Crystal Silicon Slicer.

Caractéristiques / Spécifications techniques

• Application principale : meulage, polissage et ébavurage de barreaux de silicium monocristallin de différentes tailles.
• Abrasif : diamant — dureté abrasive élevée et grains tranchants.
• Performances : fort taux d'enlèvement de matière et haute efficacité d'usinage.
• Durabilité : dureté élevée, faible usure, intervalles de dressage prolongés et longue durée de vie.
• Précision : bonne tenue de forme et haute précision d'usinage.
• Propriété thermique : bonne conductivité thermique et faible température de meulage pour une stabilité de process.
• Catégories et tailles disponibles : meules Rough, Finish et End-face avec spécifications indiquées ci‑dessus.