Source d'ions Anode ion source

Source d'ions anodique (source d'ions à barres) Sans filament, grille et grille de neutralisation, elle peut fonctionner et produire de manière stable sans entretien pendant une longue période.Temps moyen entre les pannes très élevé et coûts d'entretien très faibles.Le changement de température de l'environnement de revêtement est faible, particulièrement bénéfique pour le revêtement de substrats sensibles à la température.Large gamme de pression de travail et d'ajustement de l'énergie.En combinant les exigences d'espace du cadre de base et le mode d'installation, une source d'ionisation personnalisée à grande surface peut être réalisée. 1.Nettoyage de substrats non métalliques : nettoyage des contaminants de surface (oxydes, hydrocarbures, etc.) du substrat, augmentation de la force d'adhérence du film de base, réduction des défauts du substrat, augmentation de l'énergie de surface du substrat, etc. 2.Amélioration du taux d'ionisation du gaz : ionisation du gaz de travail en tant que dépôt assisté par ions dans le processus de pulvérisation magnétron, et en même temps amélioration de la capacité de migration et de diffusion des particules du film sur la surface, ce qui est bénéfique pour la formation d'une structure de film dense. 3. Film de dépôt : Dépôt direct de DLC et de films optiques, oxydes, nitrures, etc.