Système de métrologie pour wafers NanoSpec® II

Disponible en configuration de table ou autonome, le système d'analyse de film Nanopsec II ferme la boucle entre l'activité d'ingénierie et de recherche et l'utilisation finale en production des recettes et des algorithmes d'analyse Aperçu du produit Étendant la gamme et les performances de la série NanoSpec, qui a fait ses preuves dans l'industrie, le NanoSpec II présente une nouvelle conception avec un alignement automatique de l'échantillon, un autofocus rapide et une répétabilité des mesures meilleure que 1Å*. Le système peut être intégré au logiciel d'analyse de la réflectivité spectroscopique d'Onto Innovation, au traitement d'image pour l'alignement automatisé des modèles et à diverses options de configuration optique, ce qui fait du NanoSpec II automatisé le système pour couches minces le plus puissant de sa catégorie. Le NanoSpec II est entièrement compatible avec les cartes de matériaux des générations précédentes de produits Nanospec. De plus, de nombreux modèles de dispersion créés par les ellipsomètres Woollam® peuvent être importés et utilisés sans conversion. Disponible en configuration de table ou autonome, le Nanopsec II ferme la boucle entre l'activité d'ingénierie et de recherche et l'utilisation finale en production des recettes et des algorithmes d'analyse. La portabilité facile des recettes permet de développer des recettes en dehors de la ligne de production sans perturber le flux de production standard. Diverses options d'analyse des données hors ligne permettent aux ingénieurs de retraiter les excursions au sein du processus à tout moment, même si l'échantillon original n'est plus disponible. L'optique a été conçue pour fournir une métrologie fiable et robuste tout en maintenant les efforts de maintenance au minimum.