Système de photolithographie laser PhableR 100

Le système PhableR 100 est basé sur la technologie photolithographique propriétaire PHABLE (abréviation de Photonics Enabler) développée par Eulitha AG, qui permet d'imprimer des structures périodiques à haute résolution dans un système de photolithographie de proximité sans contact. La résolution obtenue avec le PhableR 100 est essentiellement la même que celle d'un système de lithographie par projection DUV, mais sans l'optique et la mécanique complexes et coûteuses. Par exemple, des réseaux linéaires d'un demi-pas de 150 nm peuvent être imprimés avec une grande uniformité avec le nouveau système. Autre avantage, la profondeur de champ pratiquement illimitée de l'image formée par le système PhableR 100 signifie que les motifs à haute résolution peuvent être imprimés avec une grande uniformité même sur des substrats non plats, qui sont couramment rencontrés dans les applications photoniques. Le système PhableR 100 peut exposer des substrats d'un diamètre allant jusqu'à 100 mm en utilisant des masques standard de type chrome sur verre ou à décalage de phase. Le masque et le substrat sont chargés manuellement sur le système et le processus d'exposition est contrôlé par un ordinateur embarqué. Les photoréserves standard i-line, à tonalité positive et négative, disponibles auprès des fournisseurs courants, peuvent être utilisées. Des réseaux linéaires ou courbes, des motifs de type cristal photonique 2D à symétrie hexagonale ou carrée peuvent être imprimés avec des périodes de caractéristiques inférieures à 300 nm. Le système peut également être utilisé comme un masque-aligneur standard en mode proximité ou contact pour imprimer des structures à l'échelle du micron.