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Service de dépôt sous vide chimique en phase vapeur
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Caractéristiques
- Méthode
- chimique en phase vapeur
Description
Equipement de pulvérisation verticale de grande surface
・Efficacité de la formation de film
300mm×100mm
・Configuration de l'équipement
Chambre de pulvérisation verticale à cathode RAM
・Matériau du film
TCO (ITO etc.) / Métaux (Cu etc.) / Oxydes métalliques (NiO etc.) / C (DLC) / Autres
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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.
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