Spectromètre de masse XBS

quadripolairerapided'acquisition de données

Un système pour la surveillance de sources multiples dans les applications de dépôt MBE Les sources de faisceaux moléculaires nécessitent un contrôle précis pour la croissance reproductible de films minces de qualité. Le système XBS (cross beam source) de Hiden permet de contrôler in-situ des sources multiples avec une sortie de signal en temps réel pour un contrôle précis du dépôt. Le système XBS de Hiden est un excellent outil utilisé en spectrométrie de masse à faisceau moléculaire. Surveillance et contrôle MBE Études de faisceaux moléculaires Analyse de sources à faisceaux multiples RGA haute performance Désorption Études de dégazage Cycles d'étuvage Contaminants des gaz de procédé Le système Hiden XBS RC est un spectromètre de masse quadripolaire conçu pour contrôler simultanément plusieurs sources de faisceau. Il est le seul à offrir une acceptation du faisceau par un cône de 70°, transversal à l'axe du quadripôle. Les ouvertures d'acceptation du faisceau sont configurées individuellement pour chaque position de source spécifique de la chambre de traitement, et sont fabriquées sous forme d'éléments enfichables remplaçables pour permettre une modification rétrospective en cas de modification de la chambre. La haute sensibilité et l'acquisition rapide des données du système XBS fournissent des signaux pour le contrôle des taux de croissance à partir de 0,01 Angstrom par seconde. Haute sensibilité, détection améliorée de 100% à 5ppb, gamme de masse jusqu'à 510 amu Stabilité à long terme améliorée (moins de ±0,5% de variation de hauteur sur 24 h) Source d'ions transversale, acceptation du faisceau sur +/- 35° par rapport à l'axe transversal Contrôle de la source d'ions pour l'ionisation douce et la spectrométrie de masse à potentiel d'apparition Sensibilité améliorée pour une transmission de masse élevée, alignement automatique de l'échelle de masse Ouverture d'acceptation du faisceau de 2 mm - configurée en fonction de l'application spécifique de l'utilisateur Résistance améliorée à la contamination grâce à l'étage de pré-filtrage exclusivement RF