Appareil de surveillance de mesure C10346-01

de processdes émissionsde plasma

Le moniteur multibande de procédé plasma C10346-01 est un système spécialement conçu pour surveiller les émissions de plasma optique qui sont créées au cours des différents procédés de fabrication des semi-conducteurs, notamment la gravure, la pulvérisation, le nettoyage et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Le MPM peut gérer l'enregistrement multicanal en temps réel. Spécifications Numéro de type : C10346-01 Gamme de longueurs d'onde : 200 nm à 950 nm Précision de la longueur d'onde : ±0,75 nm Résolution en longueur d'onde (FWHM) : <2 nm Alimentation électrique : AC100 V à AC240 V (50 Hz/60 Hz) Consommation électrique : Environ 70 VA Terminal de sortie numérique (sortie de signal déterminée) : TTL 5 canaux maximum (3 canaux maximum lorsque le signal de déclenchement de la mesure est utilisé Terminal d'entrée numérique (signal de déclenchement de la mesure de départ) : TTL 1 canal Utilisation du canal TTL 5 Terminal de sortie numérique (signal occupé) : TTL 1 canal Utilisation du canal TTL 4 Terminal de sortie analogique : 2 canaux 0 V à 10 V Connecteur de sonde à fibre : SMA Interface de communication : USB 2.0 Type B Température ambiante de fonctionnement : +10 ˚C à +30 ˚C