Machine de dépôt PECVD DLC800

Aperçu
Équipement compact de dépôt DLC pour la production de petits lots de revêtements résistants à l'usure et à faible friction. Huasheng DLC800 est une machine compacte conçue pour la production industrielle en petites séries. Elle combine pulvérisation magnétron (MS) et PECVD pour déposer des revêtements Cr/WC/a-C:H DLC offrant faible friction, résistance à l'usure, surface lisse et bonne adhérence du film.

Caractéristiques principales

• Conception de chambre compacte pour réduire l'encombrement et assurer une production flexible en petits lots.
• Processus hybride MS + PECVD pour obtenir des films DLC Cr/WC/a-C:H à morphologie lisse et structure de film fiable.
• Nettoyage plasma et gravure SET pour améliorer l'adhérence substrat–revêtement.
• Contrôle automatique des process, composants modulaires et maintenance accessible pour une exploitation simplifiée.

Points clés de performance

• Épaisseur typique du revêtement : 2–4 µm
• Coefficient de friction faible : ≤0,1
• Dureté du revêtement : ≈2500 HV
• Température typique de dépôt : <200°C

Paramètres produit
Réf. modèle : DLC800
Technologie de dépôt : MS + PECVD
Gravure : SET
Dimensions : L4850 × W1600 × H2400 mm
Volume chambre : 0,8 m³
Surface utile de dépôt : Φ650 × 400 mm
Température de dépôt : <200°C
Capacité : Sur demande
Poids max. chargé : 500 kg
Diamètre broche : Φ170 mm
Temps de traitement : 6–8 h

Caractéristiques / spécifications techniques

• Modèle : DLC800
• Revêtement : Cr/WC/a-C:H DLC (MS + PECVD)
• Épaisseur typique : 2–4 µm
• Coefficient de friction : ≤0,1
• Dureté : ≈2500 HV
• Surface utile de dépôt : Φ650 × 400 mm
• Poids max. chargé : 500 kg
• Volume chambre : 0,8 m³
• Température de dépôt : <200°C
• Temps de traitement par lot : 6–8 h