Filtre à gaz Wafergard® II SF

à particulesà membranehaute efficacité

Mini XL filtres intégrés de gaz de Wafergard® II SF Filtration particulaire supérieure pour la filtration de système de gaz d'ultrapure La membrane brevetée d'acier inoxydable fournissent la filtration à haute efficacité Idéal pour des applications de température et de dynamique-pression Excellente compatibilité avec la plupart des gaz de processus de semi-conducteur d'ultrapure Pour l'usage avec les gaz inertes et réactifs Utilisation typique jusqu'à 60 SLPM Matériaux : Élément filtrant : Filtre de membrane breveté d'acier inoxydable Logement : Acier inoxydable d'Electropolished 316L Intérieur extérieur de finition : Ra du μin <=5 Estimation de fuite d'hélium : 2 `qualifié 10-10 atmosphère-cc/sec. Examiné 1 `10-9 atmosphère-cc/sec. Propreté descendant : Particules : Moins de 0.03 particule/litre (particule <1/pi3) plus considérablement que 0.01 μm Composés volatils : μm =0.003 Conditions de fonctionnement : Pression d'admission maximum : barre 165 (2357 livres par pouce carré) à 20°C Différence de pression maximum vers l'avant/inverse : barre 140 (Psid 2000) Température de fonctionnement maximum : 460°C à la barre 35 (500 livres par pouce carré)