Filtre à liquide Planarcap® LPX

à capsulede profondeurpour boue

Planarcap® LPX Filtres jetables Filtres jetables au point d'utilisation pour abrasifs à base de silice et d'alumine pour oxyde et cuivre CMP Conçu pour être utilisé avec des solutions de suspension de silice et d'alumine - le plus souvent utilisées dans les applications CMP en cuivre, ILD, STI et tungstène Disponible dans une large gamme de taux de rétention de 1 µm à 5 µm Répond aux besoins des applications de filtration des boues CMP au point d'utilisation Disponible en filtres jetables avec raccords Flaretek Construction entièrement en polypropylène avec média filtrant plissé Matériaux : Moyen : Polypropylène profondeur plissé Noyau, cage et coquille : Polypropylène Connexions : Entrée/sortie : raccord Flaretek® 3/8" ou 1/4" Aération/drainage : raccord Flaretek® 1/4"* Conditions de fonctionnement maximales : Pression de service maximale : 0,27 MPa (2,7 bar, 40 PSI) à 25°C Pression différentielle maxi avant/arrière 0,27 MPa (2,7 bar, 40 PSID) à 20°C Température maximale de fonctionnement : 40°C (104°F) Notes : *Référence SKNP 010L2F est disponible avec évent / vidange 1/8" MNPT