Profilomètre à stylet NS200

pour mesure de rugosité de surfacepour contrôlede laboratoire

Le profilomètre nano à stylet NS200 est un instrument de mesure par contact pour la rugosité de surface, la mesure de profil microscopique, la hauteur de marche micro-nano et l'épaisseur de film. Il utilise un capteur de déplacement sub-angstrom, une acquisition à très faible bruit, un contrôle de mouvement fin et des algorithmes d'étalonnage avancés pour assurer une très faible force de contact et une applicabilité sur diverses réflexions de surface, matériaux et niveaux de dureté — adapté aux inspections dans les secteurs des semi‑conducteurs, LED, solaire, MEMS, écrans tactiles, automobile et médical.

Application

• Semi‑conducteur
  • Hauteur de marche des films déposés
  • Hauteur de marche des résines photoélectriques (thin film resist)
  • Mesure du taux de gravure
  • Polissage chimico‑mécanique (corrosion, piqûres, flexion)
• Grand substrat
  • Proéminence et hauteur de marche de PCB
  • Revêtement de fenêtres
  • Masque de wafer
  • Revêtement de chuck de wafer
  • Plateau de polissage
• Substrat verre et affichage
  • AMOLED
  • Mesure de hauteur de marche lors du développement d'écrans LCD
  • Mesure d'épaisseur des films pour panneaux tactiles et films minces pour revêtement solaire
• Film sur composants flexibles
  • Photodétecteur organique
  • Films organiques imprimés sur film et verre
  • Pistes cuivre des écrans tactiles

Caractéristiques / spécifications techniques

• Réf. modèle : NS200 (également disponible NS200-D)
• Observation de l'échantillon - Vue avant : caméra couleur 5MP F.O.V. 2.2 × 1.7 mm (NS200) / caméra couleur 5MP F.O.V. 10 × 13.4 mm (NS200-D)
• Observation de l'échantillon - Vue latérale : caméra couleur 5MP F.O.V. 2 × 2.68 mm (NS200-D), non applicable pour NS200
• Capteur : LVDC à inertie ultra-faible
• Force de mesure : 1–50 mg réglable
• Stylet : rayon de pointe 2 μm, angle 60°
• Course XY : X/Y motorisés 150 mm × 150 mm, nivellement réglable manuellement
• Table R-θ de l'échantillon : motorisée, rotation continue 0–360°
• Chuck à vide : chuck à vide 6 pouces
• Longueur de scan unique : 55 mm
• Plage de balayage max : 150 mm (course XY) + 55 mm plage de balayage ; portée maximale 8"
• Hauteur d'échantillon max : 50 mm
• Taille maximale de wafer : 200 mm (8")
• Répétabilité de hauteur de marche* : 5 Å @ plage 330 μm / 10 Å @ plage 1 mm (mesure hauteur 1 μm, 1δ)
• Plage du capteur : 330 μm ou 1050 μm (la sonde 330 μm est magnétique ; choisir 330 μm sauf besoin de très grande plage)
• Vitesse de balayage : 2 μm/s à 10 mm/s
• Points d'échantillonnage max par scan : 12 000
• Dimensions (L × l × H) : NS200 : 640 × 610 × 500 mm ; NS200-D : 640 × 650 × 530 mm
• Poids : 40 kg
• Alimentation : AC 100–240 V, 50/60 Hz, 200 W
• Environnement de travail : Humidité 30–40% RH (sans condensation) ; Température 16–25 °C (variation < 2 °C/h) ; Vibration au sol : 6.35 μm/s (1–100 Hz) ; Bruit audio ≤ 80 dB ; Flux laminaire d'air ≤ 0.508 m/s (flux descendant)
• Remarques : Données de répétabilité mesurées en laboratoire standard VC-C avec table anti‑vibration ; si ces conditions ne sont pas remplies, les valeurs de répétabilité seront multipliées par deux.