Spectromètre d'émission optique PlasmaQuant 9100

ICP-OESpour applications scientifiquespour l'industrie

Révéler les détails qui comptent Une fiabilité maximale - un pouvoir de résolution unique grâce à une optique haute résolution Une fonctionnalité pratique - une large applicabilité et des performances analytiques supérieures Une observation flexible - des modes d'observation du plasma optimisés sans compromis Productivité accrue - Robustesse exceptionnelle du plasma pour l'analyse de n'importe quelle matrice d'échantillon Ajoutez de la clarté, de la simplicité et de la confiance à vos routines d'analyse les plus délicates Faites l'expérience de performances analytiques, d'une flexibilité d'application, d'une robustesse et d'une fiabilité supérieures avec le spectromètre d'émission optique PlasmaQuant 9100. L'optique haute résolution et la tolérance exceptionnelle de la matrice garantissent une analyse efficace et d'une sensibilité unique des échantillons géologiques, des métaux de haute pureté, des échantillons chimiques et pétrochimiques, ainsi que des sols et des eaux usées industrielles. Dans l'analyse de traces de matériaux complexes, c'est l'échantillon qui dicte vos besoins instrumentaux. Les contenus élevés de la matrice exigent des performances élevées du plasma. Des limites de détection uniques exigent une conception unique du spectromètre. La technologie ICP-OES à haute résolution fait de la confiance inconditionnelle dans vos résultats d'analyse une réalité. Des résultats sur lesquels vous pouvez compter La faisabilité de l'analyse de traces dans des échantillons très concentrés par ICP-OES dépend fortement de la performance du plasma instrumental en vue d'obtenir rapidement différents types d'échantillons. Profitez de la plus large gamme de travail ainsi que des exigences réduites en matière de préparation des échantillons pour améliorer la précision, la productivité et la facilité d'utilisation.