Alors que l'industrie des semi-conducteurs se dirige vers une nouvelle inflexion, le générateur RF eVerest® répond au besoin de contrôle transformationnel du plasma. Ses impulsions multi-niveaux configurables permettent un timing de transition instantané ou défini par l'utilisateur. En outre, le réglage de la fréquence à grande vitesse et à haute précision basé sur un modèle, avec une large plage de balayage de la fréquence, permet d'améliorer la stabilité et le contrôle du processus. Ces capacités, auxquelles s'ajoutent une réponse plus rapide au point de consigne, un dépassement contrôlé au début des états d'impulsion et l'intelligence sophistiquée PowerInsight by Advanced Energy™ IoT, donnent les moyens d'innover en matière de processus pour le prochain nœud technologique.
Caractéristiques
Système de livraison RF complet, options multiples pour les solutions d'adaptation et synchronisation intelligente
Vitesse et contrôle au sein de profils d'impulsion multi-niveaux programmables
Réponse de sortie RF à grande vitesse et temps de montée/descente de l'état d'impulsion
Plage d'accord de fréquence jusqu'à ±10%
Stabilité dP/dZ intégrée
Écosystème PowerInsight by Advanced Energy™ IoT
Avantages
Permet le développement de nouveaux processus pour des profils de dépôt et de gravure < 2 nm
Fournit un allumage fiable avec une stabilité RF indépendante de la longueur du câble
S'intègre de manière transparente dans n'importe quel système plasma
Augmente l'espace de traitement et élargit la fenêtre de stabilité
Bénéficiant d'une assistance mondiale en matière de produits et d'applications, assurée par des centres de service locaux
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