Four de recuit VFS-4000

à diffusionde cuissonde type armoire

Ce four vertical de grand diamètre pour 4.5G/5.5G a été développé en utilisant les technologies des équipements de fabrication de semi-conducteurs pour la fabrication de substrats en verre. Ce four est adapté aux processus de scellement et de déshydratation de frites de diodes électroluminescentes organiques (OLED/AMOLED) à faible compactage. Caractéristiques Le four de diffusion de semi-conducteurs a été modifié à plus grande échelle pour l'affichage à écran plat Le traitement à pression normale et le traitement par décompression sont possibles Différents types d'atmosphères gazeuses (oxydation, réduction, neutre, corrosion, etc.) Taille maximale du substrat : 1300 × 1500 mm L'appareil de chauffage LGO à grande échelle présente d'excellentes caractéristiques de température Ce four vertical de grand diamètre utilise un contrôle strict des caractéristiques de température, un contrôle de l'atmosphère et un contrôle des particules, une expertise pour la fabrication de semi-conducteurs, pour les FPD. Des bateaux en quartz sont utilisés pour créer un environnement exempt de particules et de métaux afin de permettre un traitement thermique sous vide à une concentration d'O2 de 10 ppm ou moins. Ce four convient au recuit de contact des écrans tactiles et autres matériaux, au recuit de post-cuisson et au recuit d'activation.