Four de recuit VF-5300

à diffusiond'oxydationde traitement thermique

Ce four vertical avec un stockeur intégré traite des plaquettes de 8 pouces à ultra-haute température en grands lots. Ce four est un système de traitement thermique des semi-conducteurs qui peut effectuer l'oxydation, la diffusion, le LPCVD, le recuit d'activation et divers autres traitements thermiques. Caractéristiques Traitement par lots importants, max 150 wafers Max 20 stocks de cassettes Excellent contrôle de la température, de la basse à la moyenne haute, à l'aide d'un réchauffeur LGO Transfert de plaquettes à grande vitesse grâce à un robot de manipulation d'une ou cinq plaquettes Équipé d'un système de contrôle haute performance convivial pour l'opérateur Ce modèle est un four de diffusion vertical continu de type grande série, équipé d'un stockeur pour un maximum de 150 wafers (8 pouces) ou 20 cassettes. Grâce à l'élément chauffant LGO, ce four présente des caractéristiques de température supérieures sur une plage allant des basses températures aux températures ultra-hautes. Ce four peut être utilisé pour une large gamme de traitements allant du recuit à basse température, du nitrure (Si3N4), du polysilicium (poly Si) et d'autres matériaux LPCVD à l'oxydation et à la diffusion. Un chauffage au disiliciure de molybdène (MoSi2) peut également être utilisé pour l'oxynitruration de la grille des dispositifs de puissance en SiC et d'autres traitements à ultra-haute température.