Système de mesure de dimension critique SpectraShape™ series

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Systèmes optiques de mesure de la dimension critique (CD) et de la forme Le système de métrologie dimensionnelle SpectraShape™ 10K est utilisé pour caractériser et contrôler entièrement les dimensions critiques (CD) et les formes tridimensionnelles des finFET, des NAND empilés verticalement et d'autres caractéristiques complexes sur les circuits intégrés aux nœuds de conception 1Xnm et au-delà. Grâce à un large éventail de technologies optiques et d'algorithmes brevetés, le système de mesure optique des CD et des formes SpectraShape 10K fournit un retour d'information sur les paramètres critiques des dispositifs (dimension critique, creux de la porte métallique, creux à k élevé, angle de la paroi latérale, hauteur de la résistance, hauteur du masque dur, pas) pour une large gamme d'applications dans l'ensemble de l'usine de fabrication de circuits intégrés, depuis les premières couches des transistors d'avant-garde jusqu'aux dernières couches d'interconnexion. Applications Contrôle du processus en ligne, contrôle du patterning, expansion de la fenêtre de processus, contrôle de la fenêtre de processus, contrôle de processus avancé (APC), analyse d'ingénierie Produits apparentés AcuShape® : Logiciel de modélisation avancé qui interprète les signaux des systèmes SpectraShape, permettant d'accélérer le processus de construction de modèles de forme 3D robustes et utilisables. SpectraShape 10K : Systèmes optiques de CD et de métrologie de la forme permettant de mesurer des caractéristiques complexes pour les circuits intégrés logiques et à mémoire avancée de 1Xnm. SpectraShape 9000 : systèmes de CD optique et de métrologie des formes permettant de mesurer des caractéristiques complexes pour les circuits intégrés à des nœuds de conception de 20 nm et moins.