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Système de gravure plasma ECR M-600/6000 series
pour silicium

système de gravure plasma ECR
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Caractéristiques

Technique
plasma ECR
Applications
pour silicium

Description

Le système de gravure de conducteurs M-600/6000 Series est destiné à la gravure de tranchées profondes en silicium pour les dispositifs de puissance utilisés dans les systèmes mobiles, les appareils électriques domestiques, les automobiles, les trains, etc. La technologie de gravure à basse température et la technologie de polarisation TM (Time Modulation), associées à la source de plasma haute densité ECR (Electron Cyclotron Resonance), permettent d'obtenir un processus propre, des profils de tranchées supérieurs sans résidus sur les parois latérales et une excellente productivité. Diamètre de tranche applicable : 150mm, 200mm Configuration du système : 2 gravures + 2 cendres (max.)

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