Plateau à vide en céramique PLASMAPURE™ ALUMINA

Composants céramiques pour la lithographie et l'inspection des plaquettes Parfaits pour les applications de lithographie et de manipulation de plaquettes de nouvelle génération, nos composants céramiques ultra-purs garantissent une contamination minimale et une durée de vie exceptionnellement longue. COMPOSANTS POUR LA LITHOGRAPHIE ET L'INSPECTION DES WAFERS Résistants aux attaques chimiques et thermiquement stables, nos composants céramiques de haute pureté sont idéaux pour le traitement de la lithographie, la manipulation des plaquettes (faible contamination) et l'inspection des plaquettes (durabilité et dureté extrêmes, stabilité dimensionnelle). Les applications comprennent : Substrats pour photomasques Mandrins pour tranches de silicium Composants de plateaux pour plaquettes de silicium Tables à plaquettes MATÉRIAUX RECOMMANDÉS POUR LA LITHOGRAPHIE ET L'INSPECTION DES PLAQUETTES Alumines de haute pureté Carbure de silicium recristallisé UltraClean™ Carbures de silicium CeraSiC, UltraSiC™ directement frittés SUBSTRATS POUR MASQUES PHOTOGRAPHIQUES Les substrats de masque photographique CoorsTek sont fabriqués à partir de verre de quartz synthétique de haute pureté pour offrir une transmission supérieure de la lumière UV et visible, une stabilité thermique, une isolation électrique, une faible biréfringence et une stabilité chimique durable. Grâce à une technologie de polissage avancée et évolutive, ces substrats de masque photographique sont idéaux pour le modelage microscopique des plaquettes jusqu'aux grands écrans plats (FPD). GAUFRETTES EN CÉRAMIQUE Nos mandrins à vide ultraplats en céramique, nos mandrins pas à pas, nos mandrins poreux et nos mandrins électrostatiques améliorent la gestion du rendement pour le traitement des plaquettes de semi-conducteurs. Les configurations à faible contact de surface minimisent le risque de particules sur la face arrière pour les applications sensibles. Nos mandrins pour plaquettes de silicium offrent : Capacités ultraplates Polissage miroir Une légèreté exceptionnelle Une grande rigidité Faible dilatation thermique Φ 300 mm de diamètre et plus Résistance extrême à l'usure