Litho-Kit de M6/PH w/PLK
Essai sur place
L'utilisation croissante des solutions sans alcool et réduites en alcool de fontaine met la nouvelle importance sur surveiller la conductivité, le pH et la température. Le Litho-Kit facile à utiliser avec l'instrument de M6/pH te permet de faire immédiatement ces essais importants. Il est votre d'un seul bloc, le contrôle de qualité « outil » ...
Le model 5000 d'OAI est un dispositif d'alignement de masque et un outil avancés et à rendement élevé d'exposition qui fournit la partie antérieure ultra précise et, l'alignement submicronique et la résolution pour le dispositif de semi-conducteur le plus exigeant et les applications extérieures de MEMS.
Le système est disponible dans le manuel ou les versions entièrement automatisées, et ...
La série de JBX-3050MV est un système de lithographie de faisceau d'électrons pour la fabrication de masque/réticule qui satisfait à la règle de conception de 45 à 32 nanomètre. Les caractéristiques du système ce modèlent l'écriture avec la fiabilité à grande vitesse, de grande précision et élevée, réalisée par technologie à extrémité élevé.
Le JBX-9300FS est un système de lithographie de faisceau d'électrons comportant un faisceau de tache, le balayage de vecteur, et une étape d'étape et de répétition. Capable de varier la taille de faisceau considérablement, le système est souple dans ses applications de la recherche fondamentale des éléments pour examiner la production des éléments optiques à la recherche et développement pour des ...
Le nouveau JBX-5500FS est un rentable, la résolution directe écrivent l'outil qui est commandé par PC et simple pour employer. Un faisceau de tache, système de balayage de vecteur, le JBX-5500FS écrit des modèles à une ligne largeur minimum de 10nm à 50kV.
Le JBX-5500FS peut réaliser des exactitudes d'écriture en deux modes séparés :
* Mode de haute résolution : L'exactitude ...
The F3000 is an EB lithography system optimized for system LSIs of 65nm and smaller, supporting 300 wafer process technology, that offers shorter TATs in high-mix, variable-volume production environments.
Inheriting the high-resolution electron optical technology, the reliability, and the high average operation rate of previous models, the F3000 also boasts a more rigid body and upgrades ...
Le FizCam DUV fournit la mesure précise du systeme optique et des systèmes optiques aux longueurs d'onde ultra-violettes profondes pour des applications de lithographie.
Le FizCam DUV incorpore un appareil-photo simple, la sonde optique à grande vitesse de phase qui fait une mesure de front des ondes en plus moins de 1 milliseconde. Puisque le temps d'acquisition est si court, le FizCam DUV ...
Le nano imprimant NPS300 de pas est une solution de lithographie de découpage-bord qui combine des avantages d'E-Faisceau-Résolution avec la sortie élevée et le bas coût de la propriété.
Le NPS 300 est un système très flexible disponible car une machine manuellement chargée ou comme système entièrement automatisé. Le timbre automatisé reprennent, laisse imprimer le modèle différent de différents ...
Nano Imprint Lithography (NIL) is a versatile enabling nano manufacturing technology, that has been included on the ITRS Lithography Roadmap at the 32 and 22 nm nodes in 2003. Other applications include patterned media, sensors, high brightness LEDs, VCSELs and other optical devices. This technology has been shown to be an effective method for replication of nanometer-scale structures from a template. ...
